一种深黑色金属薄膜的制备方法,其特征在于,在真空条件及温度范围为50℃～300℃的条件下,使用铬靶、钛靶或钨靶的靶材进行磁控溅射,具体包括以下步骤：使用所述靶材轰击处理基材；沉积金属打底层：使用所述靶材在所述基材上进行磁控溅射沉积；沉积金属碳化物过渡层：通入乙炔和/或甲烷及氩气,使用所述靶材在所述金属打底层上进行磁控溅射沉积,其中,乙炔和/或甲烷的流量采用渐增方式增加,乙炔和/或甲烷的流量：100sccm～1000sccm,氩气的流量：100sccm～1500sccm,真空室压强：0.1Pa～1.5Pa,靶材电流：10A～40A,时间：30min～90min,偏压：-50V～-400V；沉积金属碳氧化合物颜色层：通入氧气、乙炔和/或甲烷及氩气,使用所述靶材在所述金属碳化物过渡层进行磁控溅射沉积,其中,氧气的流量：10sccm～200sccm,乙炔和/或甲烷的流量：100sccm～1000sccm,氩气的流量：100sccm～1500sccm,真空室压强：0.1Pa～1.5Pa,靶材电流：10A～40A,时间：1min～15min,偏压：-30V～-200V。